プレスリリース

　当研究所、株式会社レゾナックは、「パワー半導体用高品質SiCエピタキシャルウェハーの高生産性製造技術」の開発において、公益財団法人市村清新技術財団が主催する「第58回 市村産業賞」貢献賞を共同で受賞しました。

詳細な情報は 添付資料 をご参照下さい。